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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
主營：貴金屬材料
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| 先生： |
人類社會的存在，科學技術(shù)的進步和發(fā)展，已成為21世紀首要的戰(zhàn)略儲備物資，且與各國的政治經(jīng)濟和社會發(fā)展有著息息相關(guān)的緊密聯(lián)系，純鈀靶材價格，在已知的傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)和應(yīng)用領(lǐng)域中，高純材料、合金、各種深加工的制品（半成品）及化學制品，已被廣泛應(yīng)用到冶金鋼鐵，石油化工，純鈀靶材報價，有機化工，化工，電子電器，汽車制造，丹東純鈀靶材，光學玻璃，玻璃纖維。
綁定的適用范圍
技術(shù)上來說表面平整可進行金屬化處理的靶材都可以用我司銦焊綁定技術(shù)綁定銅背靶來提高濺射過程的散熱性、提高靶材利用率。
建議綁定的靶材：
ITO、SiO2、陶瓷脆性靶材及燒結(jié)靶材；
錫、銦等軟金屬靶；
靶材太薄、靶材太貴的情況等。
但下列情況綁定有弊端：
1.熔點低的靶材，純鈀靶材回收，像銦、硒等，金屬化的時候可能會變軟變形；
2.貴金屬靶材，一是實際重量易出現(xiàn)分歧，二是金屬化以及解綁的時候都會有浪費料，建議墊一片銅片。
在所有應(yīng)用產(chǎn)業(yè)中，半導體產(chǎn)業(yè)對靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是苛刻的。如今12英寸（300衄口）的硅晶片已制造出來．而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細晶粒，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。靶材的結(jié)晶粒子直徑和均勻性已被認為是影響薄膜沉積率的關(guān)鍵因素。另外，薄膜的純度與靶材的純度關(guān)系極大，過99.995%（4N5）純度的銅靶，或許能夠滿足半導體廠商0.35pm工藝的需求，但是卻無法滿足如今0.25um的工藝要求。
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第9年
